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ICS 17.180; 31. 030N 05中华人民共和国机械行业标准JB/T 9495.5—1999光学晶体散射颗粒度测量方法Measuring method for scatter graininessof optical crystal1999- 08 - 06发布2000- 01 01 实施国家机械工业局发布
JB/T 9495.5--1999前本标准是对 ZB N05 001.5—86《光学晶体散颗粒度 测量方法》的修订。本标准根据 GB/T 1.1—1993和 GB/T 1.22一1993的要求对原标准作了编辑、文字上的修改,主要技术内容没有变化。本标准自实施之日起,代替 ZB N05 001.5-86。本标准由仪表功能材料标准化技术委员会提出并归口。本标准由北京玻璃研究所负资起草。本标准主要起草人:于长江,杨学志。本标准1986年6月首次发布。
中华人民共和国机械行业标准光学晶体散射颗粒度测量方法JB/T 9495. 5--1999代警 ZB NOS 001 5--86Measuring method for scatter graininessof optical crystal范围本标准适用于光学晶体散射颗粒的定性测量。引用标准下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。JB/T 9495.1--1999 光学晶体3 原理光线滑晶体生长方向照射被测晶体,借助晶体内杂质颗粒、气泡等对光的全反射准用引起的款射,从侧面可以清疏绝观察到晶体内散射赖粒的情况说。JB/T9495.1一1999的5.2规定对被测量体分级定类。4 仪器测量晶体散射颗粒度的仪器如图1所示。1-激光电源;2-光源(氧氢激光器):3-晶体样品:4-载物台图1国家机械工业局 1999-08-06批准2000-01-01实施1
JB/T 9495.5--19995光源及样品5.1光源为2mW氢氛激光器和100W白炽灯泡两种5.2样品:被测小块光学晶体各面均须抛光,粗糙度为R6.3μm。大块光学晶体各面均须细磨,然后用浸液测量,浸液折射率应与被测样品折射率相近,差值 △π = ± 1×10-。6测盘6.1 测量应在暗室中进行。6.2将被测晶体放在载物台上(未抛光的晶体放在液槽内,然后倒人配好的浸液,将晶体全部浸没为止)。6.3接通电源,点燃激光光源(2mW氢氛激光管)6.4用2mW氢氛激光照明,观察晶体内散射颗粒,按JB/T9495.1-1999中的规定对被测晶体分类。6.5将晶体置于100W白炽灯光照射下计数晶体内散射颗粒(直径d0.05mm)的总截面积,按JB/T9495.1一1999中 的规定对被测晶体分级c7测试报告将测量结果填人表1的测量报告。表 1光学晶体散射颗粒度测量报告单散射粒度品种炉号级别类别2
JB/T 9495.5 -- 1999中华人民共和国机械行业标准光学晶体散射颗粒度测悬方法JB/T 9495.5—1999机械工业仪器仪表综合技术经济研究所出版北京市广安门外大街甲397号邮政编码:100055电话63261816廊坊市光达胶印广印刷机械工业仪器仪表综合技术经济研究所发行*E - mai : sditei@public 网 : http: //.en/content. htm*2001年10月第一版2001 年10月第一次印刷*
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