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本实用新型公开了一种用于研磨抛光设备的供液装置，涉及半导体制备技术领域，用于向研磨抛光设备提供连续或离散的液体溶剂，包括存储液体溶剂的料筒；其特征在于：所述料筒为圆柱桶装结构；在所述料筒的中心轴处设置有转轴；在上述转轴上安装有对液体溶剂进行搅拌用的扇叶；所述用于研磨抛光设备的供液装置还包括：带动上述转轴动作的动力机构；控制供料速率的蠕动泵；其中：在上述料筒的底部或者侧边开设有连接通孔；所述蠕动泵的第一端口通过引流管与料筒内腔连通；所述蠕动泵的第二端口连接有向研磨抛光设备提供连续或离散液体溶剂的喷
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209919660 U
(45)授权公告日
2020.01.10
(21)申请号 20192
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