原创力文档- 3
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- 2023-07-31 发布于四川
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本实用新型主要应用于半导件外延生长设备，具体涉及一种用于碳化硅外延的气体分流装置。包括分流腔室；分流腔室前端设有分流板与分流罩，分流腔室分流板上设有若干横向的通孔；分流罩内部中空并设有两个横向的隔板，将罩体按1：3：1体积比隔开；分流腔室内在相应位置也设有两块隔板，将分流腔室分为三部分，各个部分后端各设有一根金属波纹卡套管；分流腔室外部设有锁紧装置。本实用新型结构简单，设计合理，实现难度不大，维护方便。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209941142 U
(45)授权公告日
2020.01.14
(21)申请号 20192
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