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- 2023-07-31 发布于四川
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本实用新型提供了一种涂胶单元以及涂胶显影系统,所述涂胶单元包括工艺箱体、载片台、压力监测装置和通风系统,所述通风系统包括供风系统和排风系统,所述工艺箱体包括开口和排风口,所述工艺箱体内部设有所述压力监测装置。光阻在旋涂的过程中,所述压力监测装置对所述工艺箱体内部的压力进行实时监测,可以及时发现所述工艺箱体内部的压力异常,有助于提高光阻厚度的均匀性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209946631 U
(45)授权公告日
2020.01.14
(21)申请号 20192
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