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- 2023-07-31 发布于四川
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整体式同心双平面抛光装置,包括工作台,抛光液回收槽内设有下抛光盘,下抛光盘与第一电机连接;下抛光盘上方同心设有上抛光盘,上抛光盘通过环形导轨与固定环联接;工作台两侧各设有立柱,立柱上安装电动直线模组和直线导轨;电动直线模组和直线导轨的滑块上各固联一L型连接块,对应的,固定环上设有安装部,两个安装部分别与两个L型连接块固联;电机安装支架上第二电机限位环与下抛光盘固联;限位环与上抛光盘相适配;下抛光盘上,在位于限位环内,贴有下抛光垫;限位环上设有进液通道和排液通道,排液通道和进液通道呈交错间隔设置;
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209936639 U
(45)授权公告日
2020.01.14
(21)申请号 20192
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