一种二极管芯片多层金属化层的制作方法.pdfVIP

  • 3
  • 0
  • 约4.33千字
  • 约 5页
  • 2023-08-05 发布于四川
  • 举报

一种二极管芯片多层金属化层的制作方法.pdf

本发明提供的一种二极管芯片多层金属化层;包括基底,所述基底上制作有二氧化硅层,所述二氧化硅层上扩散有PI层,所述二氧化硅层和PI层中心制作有金属层,所述金属层为铝钛金多金层。本发明采用铝钛金多层金属化层,克服了金属化层与芯片的硅表面及表面二氧化硅膜粘附性差、顶层金属易氧化等不足,且金属化层刻蚀过程工艺简单,不会出现刻蚀速率差异较大导致的金属化层钻蚀及翘曲等不良现象,且各层金属的热匹配性好,在后续的高温钎焊过程中不出现起皮,翘曲等异常情。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 110534564 A (43)申请公布日 2019.12.03 (21)申请号 20191

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档