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- 2023-08-05 发布于四川
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本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置具备:处理容器、将第一气体和第二气体相独立地供给的喷淋头;以及控制部,其中,喷淋头具有用于使第一气体扩散的第一气体扩散室、用于使第二气体扩散的第二气体扩散室、用于喷出第一气体的第一开口、用于喷出第二气体的第二开口、使第一气体扩散室与多个第一开口连通的第一气体供给路径以及使第二气体扩散室与第二开口连通的第二气体供给路径,控制部进行控制,以使第一气体扩散室与处理空间的压力差成为47Pa以上,并使每一个第一气体供给路径的气体流量成为0.15scc
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116544094 A
(43)申请公布日 2023.08.04
(21)申请号 202310045932.7
(22)申请日 2023.01.30
(30)优先权数据
2022-015466 202
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