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- 2023-08-05 发布于四川
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本实用新型公开了一种AlInGaN基发光二极管,从下至上依次包括:N型AlInGaN层、具有V坑的AlInGaN超晶格层、n区空穴阻挡层、AlInGaN基有源层、P型AlInGaN层,其特征在于:所述P型AlInGaN层中含有p区空穴阻挡层;所述n区空穴阻挡层仅形成于所述具有V坑的AlInGaN超晶格层的V坑侧壁,禁带宽度大于n区空穴阻挡层两侧半导体层;所述AlInGaN基有源层表面上具有V坑和连接所述V坑的平面区,所述P型AlInGaN层形成于所述平面区的上面并填充所述V型缺陷,所述p区空穴阻
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209993614 U
(45)授权公告日
2020.01.24
(21)申请号 20192
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