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联合单面抛光机.pdfVIP

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  • 2023-08-05 发布于四川
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联合单面抛光机.pdf

    本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种联合单面抛光机，包括抛光头旋转结构，所述抛光头旋转结构用于驱动抛光头从一个抛光盘到另一个抛光盘。通过抛光头旋转结构驱动抛光头旋转至对应抛光盘对晶片进行抛光加工，满足需要多步抛光的CMP抛光工序，可以一次性完成，大幅降低设备的耗材的成本，又减少了人工成本和车间建设成本，并缩短生产时间，提高生产效率，从而增强企业的市场竞争力。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209998959 U (45)授权公告日 2020.01.31 (21)申请号 20182

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