- 3
- 0
- 约5.59千字
- 约 6页
- 2023-08-06 发布于四川
- 举报
一种平板式PECVD设备反应腔室特气耦合输送装置,包括位于反应腔室上盖上的上送气座、位于反应腔室内的下送气座、以及位于上送气座和下送气座之间的过渡座,上送气座上设有多个上送气接头,过渡座上设有多个过渡通道,下送气座上设有多个下送气接头,各上送气接头下端与各所述过渡通道的上端一一对应布置,各下送气接头上端一一对应地伸入各所述过渡通道的下端,过渡座上端于各所述过渡通道外周分别设有第一密封圈,过渡座上端边缘设有包括所有第一密封圈在内的第二密封圈。本实用新型可将气体从固定不动的下反应腔室安全地引入到铰链
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210012899 U
(45)授权公告日
2020.02.04
(21)申请号 20192
原创力文档

文档评论(0)