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- 2023-08-07 发布于四川
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本公开涉及半导体裸片以及电子系统。半导体裸片包括:MEMS设备,包括具有通孔腔体的结构本体、在结构本体的第一侧处悬置在腔体之上的膜;以及过滤模块,在与第一侧相对的第二侧处直接耦合至结构本体,过滤模块的第一部分在腔体之上延伸,并且过滤模块的第二部分无缝地延伸为结构本体的延长部,其中过滤模块的第一部分包括多个通孔开口,多个通孔开口被配置为使腔体与半导体裸片的外部环境进行流体连通,并且同时阻挡污染颗粒从外部环境传到声室。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210030037 U
(45)授权公告日
2020.02.07
(21)申请号 20192
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