一种TiZrV-Al磁控溅射靶材及其制备方法.pdfVIP

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2023-08-09 发布于四川
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一种TiZrV-Al磁控溅射靶材及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种TiZrV‑Al磁控溅射靶材及其制备方法。所述TiZrV‑Al磁控溅射靶材包括内衬管和设于内衬管外的一段或多段TiZrV‑Al靶材；TiZrV‑Al磁控溅射靶材的制备方法包括如下步骤：将TiZrV‑Al粉体填充于模具中石墨模具与纯钛内衬管之间的环腔中；石墨模具与纯钛内衬管的两端配合石墨板；将模具进行脱气，然后置于惰性气氛中进行烧制得到靶材毛坯；从模具中取出纯钛内衬管，对胚料内壁进行车削得TiZrV‑Al靶材；将一段或多段TiZrV‑Al靶材布置于内衬管上即得。本发明TiZrV‑A

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116555714 A (43)申请公布日 2023.08.08 (21)申请号 202310235771.8 B22F 5/12 (2006.01)