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本发明公开了一种成型上颌半口义齿个性化腭图及其方法，属于义齿制备技术领域。该方法包括：制作患者的上颌精细印模；在上颌精细印模的后侧放置聚醚硅橡胶后，让患者发英文中“k、g和ng”音；在上颌精细印模的前侧放置聚醚硅橡胶后，并让患者顺次发英文中“s、z、sh、zh、l、t、d、ch、j、n、r和y”音；再整塑上颌精细印模的上前牙区唇侧形态，并形成中性区排牙的位置引导后，进行扫描、打印。该方法能够整塑上腭区的形态，使上颌精细印模与患者的口腔适配度更高，从而使全口义齿的制作更具个性化，能够有效避免全口义
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115300148 A
(43)申请公布日 2022.11.08
(21)申请号 202211048149.8
(22)申请日 2022.08.30
(71)申请人 中国人民解放军空军军医大学
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