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铁磁薄膜图形化单元磁特性的微磁学研究的开题报告 题目：铁磁薄膜图形化单元磁特性的微磁学研究 研究背景和意义： 随着微电子技术和信息技术的飞速发展，磁性材料在存储器、传感器、磁共振成像等领域得到了广泛应用。铁磁薄膜是磁性材料中应用最广泛的一类材料，其在信息存储、传感器等领域具有重要的应用价值。铁磁薄膜的磁性能是其在应用领域中起决定作用的重要因素之一。因此，研究铁磁薄膜的磁特性具有重要的理论和应用意义。 微磁学是研究微尺度下材料的磁特性和磁畴结构的一门学科。微磁学模拟可以对铁磁薄膜的磁性能进行深入研究和理解。然而，目前的微磁学模拟往往是以整个铁磁薄膜为研究对象，而忽略了铁磁薄膜的图形化单元特性。事实上，铁磁薄膜是由许多图形化单元组成的，每个图形化单元的尺寸和形状对整个铁磁薄膜的磁性能具有重要影响。因此，研究铁磁薄膜的图形化单元磁特性对于深入理解铁磁薄膜的磁性能具有重要意义。 研究内容和方法： 本研究将采用微磁学建模和计算方法，研究铁磁薄膜的图形化单元磁特性，并分析图形化单元尺寸和形状对铁磁薄膜磁性能的影响。具体研究内容包括： 1. 构建铁磁薄膜的图形化单元模型，并研究图形化单元尺寸和形状对磁畴结构的影响； 2. 建立铁磁薄膜的微磁学模型，对图形化单元进行单独磁场作用下的磁性能研究； 3. 研究图形化单元之间的相互作用对整个铁磁薄膜的磁性能的影响； 4. 分析图形化单元的磁特性和整个铁磁薄膜的磁性能之间的关系。 研究意义： 本研究将深入探讨铁磁薄膜的图形化单元磁特性，揭示图形化单元尺寸和形状对铁磁薄膜磁性能的影响，有助于分析铁磁薄膜的磁性能来源，为优化铁磁薄膜的应用提供理论依据。此外，本研究采用微磁学模拟方法，有助于发展微磁学理论和模拟技术。 参考文献： [1] K. Liu, K. A. Mkhoyan, “Atomic-scale imaging of magnetic circular dichroism by achromatic electron microscopy,” Nature Materials, vol. 9, no. 3, pp. 189-192, 2010. [2] J. A. Katine, F. J. Albert, R. A. Buhrman, E. B. Myers, D. C. Ralph, “Current-driven magnetization reversal and spin-wave excitations in Co/Cu/Co pillars,” Phys. Rev. Lett., vol. 84, no. 14, pp. 3149-3152, 2000. [3] B. Dieny, R. Sousa, “Magnetic random-access memory based on spin-transfer torque,” Nat. Mater., vol. 10, pp. 259-268, 2011.