一种集成电路物理版图双重曝光中的奇数几何内环检查方法.pdfVIP

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2023-08-09 发布于四川
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一种集成电路物理版图双重曝光中的奇数几何内环检查方法.pdf

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本发明提供了一种集成电路物理版图双重曝光中的奇数几何内环检查方法，包括以下步骤：确定待二分着色的图形层以及对该图形层进行间距检查的结果层；根据间距检查结果，建立图形之间的拓扑连接关系，并根据所述拓扑连接关系进行极大连通子图的划分；对所述极大连通子图进行二分着色并标记着色冲突的极大连通子图；寻找并删除所述标记着色冲突的极大连通子图中的所有的割点和桥，得到双连通分量；确定所述双连通分量包含的所有几何内环；判断所述几何内环的奇偶性，输出所有奇数环。本发明可以帮助设计人员快速定位出版图中引起着色冲突的最

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116560183 A (43)申请公布日 2023.08.08 (21)申请号 202310562250.3 (22)申请日 2023.05.18 (71)申请人成都华大九天科技有限公司地址