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一种离子源以及一种离子注入机.pdfVIP

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  • 2023-08-09 发布于四川
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一种离子源以及一种离子注入机.pdf

    本实用新型涉及一种离子源，包括：壳体，其具有可容纳离子源气体的第一空腔，其中所述壳体具有用于引入离子源气体的入口以及用于引出等离子体的出口；以及多孔层，其布置在壳体的第一空腔中，其中所述多孔层具有开放的孔隙，并且其中所述孔隙的直径在从所述入口到所述出口的方向上增大。通过该离子源，能够提高所生成的等离子体的均匀度，从而提高产品质量并减少因频繁调节电流频率造成的灯丝寿命损失，此外，还能够增加离子源气体的利用率，增加等离子体的生成速度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210040118 U (45)授权公告日 2020.02.07 (21)申请号 20192

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