- 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开了一种HCL二次纯化柜增加支路管道的方法,其增加的方法包括以下步骤:S1、首先将相对应设置的氯化氢阀门分配箱和氯化氢出口通过相应的管道进行实时连接贯通,并且通过相对应的管道将高纯氮口、氮气口和泄压口进行连接贯通,同时需要沿着气体流动方向设置五路管路,且在五路沿着管路气体流动方向管体上依次设有手动隔膜阀、粒子过滤器、单向阀、压力计和真空发生器等设备。本发明在半导体外延工艺处理过程中,当产品工艺参数出现异常时,可以通过支路管道上的纯化器测试,判断是否由于纯化器失效造成工艺参数异常,大大减少
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116557775 A
(43)申请公布日 2023.08.08
(21)申请号 202310384990.2 C01B 7/07 (2006.01)
(22)申请日 2023.04.1
文档评论(0)