一种数字掩模投影光刻优化方法及系统.pdfVIP

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2023-08-09 发布于四川
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一种数字掩模投影光刻优化方法及系统.pdf

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本发明为解决数字掩模投影光刻存在实际光刻图形偏离目标设计图形、光刻分辨率难以提高的问题，提出一种数字掩模投影光刻优化方法及系统，其方法包括以下步骤：建立以数字掩模的复振幅分布的矩阵表达式，构建数字掩模投影光刻成像模型；建立以数字掩膜为变量的关于图形保真度的代价函数F；给定二元的目标图形并对所述数字掩模投影光刻成像模型进行数字掩模反演计算，基于所述代价函数F计算对于数字掩模的梯度，对所述数字掩模投影光刻成像模型进行优化，在迭代一定次数或者满足一定条件之后停止迭代，得到数字掩模M；将所述数字掩模M加

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113495435 A (43)申请公布日 2021.10.12 (21)申请号 202110580510.0 (22)申请日 2021.05.26 (71)申请人暨南大学地址 51