原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开了一种GaAs基P沟道增强型CMOS器件，包括：GaAs缓冲层叠加在衬底上；未掺杂GaAs层叠加在GaAs缓冲层上；未掺杂GaN层叠加在未掺杂GaAs层上位于隔离区的一侧；AlGaN势垒层叠加在未掺杂GaN层上；p‑GaN层叠加在AlGaN势垒层的中间；第一源电极和第一漏电极分别位于p‑GaN层的两侧；第一栅电极叠加在p‑GaN层上；n‑GaAs层位于隔离区的另一侧；n‑GaAs层有两个P掺杂区；第二源电极和第二漏电极分别叠加在两个P掺杂区上；栅介质层位于两个P掺杂区之间且叠加在n‑G
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116565006 A
(43)申请公布日 2023.08.08
(21)申请号 202310390161.5
(22)申请日 2023.04.12
(71)申请人 西安电子科技大学
文档评论（0）