一种用于端面加工的真空腔体.pdfVIP

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  • 2023-08-10 发布于四川
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本实用新型提供一种用于端面加工的真空腔体。所述用于端面加工的真空腔体,包括底座,所述底座的顶部固定连接有爪盘体,所述爪盘体开设有滑槽,所述滑槽的两侧之间滑动连接有滑块,所述滑块的顶部固定连接有滑板,所述滑板的顶部设置有卡爪,所述滑板的外壁贴合设置有抵紧环,所述抵紧环的一侧贴合设置有限位块,所述限位块的底部与滑板的顶部贴合设置,所述限位块的顶部开设有插孔,所述插孔的内壁固定连接有卡环,所述限位块的一侧开设有连接孔,所述连接孔与插孔相连通。本实用新型提供的用于端面加工的真空腔体无需工人手工翻转缸体,

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210052730 U (45)授权公告日 2020.02.11 (21)申请号 20192

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