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    本公开涉及映射装置。所述映射装置包括：基底；静电吸盘，在所述基底下面，并且与所述基底接触；以及防分离框架，在所述基底上，并且防止所述基底分离。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219513080 U (45)授权公告日 2023.08.11 (21)申请号 202320418991.X (22)申请日 2023.03.08 (30)优先权数据 10-2022-0031483

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