Si衬底上ZnO薄膜的水热法制备研究.docxVIP

Si衬底上ZnO薄膜的水热法制备研究.docx

  1. 1、本文档共33页,其中可免费阅读10页,需付费200金币后方可阅读剩余内容。
  2. 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
  3. 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  4. 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
PAGE V 摘要 近年来,ZnO纳米材料在电子元器件领域表现出巨大的潜力。ZnO材料的带隙宽度为3.37eV,其激子束缚能为60meV,激发发光波长为365nm,由于其化学性质稳定、热稳定性好、生物兼容好、透过率高等优势,在气敏传感器、场效应管、光电二极管、电子晶体等领域都有着广泛的应用。ZnO材料是目前使用最为宽泛的宽带隙半导体材料之一。 目前已呈现多种多样的ZnO薄膜制备方法,对比于磁控溅射、化学气相沉积(CVD)等方法,水溶液生长法具有有成本低、操作简便、可低温操作、能生长出质量较好的晶体等优点,本文一水溶液生长法,探究不同温度、不同计量比对ZnO生长的影响。 选取计量

文档评论(0)

瀚海文化 + 关注
实名认证
文档贡献者

创造文章的海洋,感受知识的魅力

1亿VIP精品文档

相关文档