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本实用新型提供了一种用于磁瓦表面全检的光学装置,包括从上至下依次连接的直射光罩,弧形光罩和平行光罩,所述弧形光罩的顶部和底部分别为开口,所述直射光罩通过反射镜将内部光垂直由所述弧形光罩的顶部开口射入所述弧形光罩内,所述弧形光罩的底部内侧安装有沿圆周布置的圆周光源,所述平行光罩设置有两个且相对地固定在所述弧形光罩的底部两侧,两个所述平行光罩的出光面分别朝向对方。本实用新型能够对不同摆放状态下的待检测磁瓦的内弧面、外弧面及四个侧面进行无死角的照明,一旦有缺陷则能够很好地凸显出来,提高检测装置获取待检
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210071694 U
(45)授权公告日
2020.02.14
(21)申请号 20192
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