4.3-扫描电镜(SEM)完整版.ppt

扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，简称SEM）是继透射电镜（TEM）之后发展起来的一种电子显微镜， 1965年第一台商用SEM问世。 扫描电子显微镜的成像原理和光学显微镜或透射电子显微镜不同，它是以电子束作为照明源，把聚焦得很细的电子束以光栅状扫描方式照射到试样上，产生各种与试样性质有关的信息，然后加以收集和处理从而获得微观形貌放大像。 在最近20多年的时间内，扫描电子显微镜发展迅速，又综合了X射线分光谱仪、电子探针以及其它许多技术而发展成为分析型的扫描电子显微镜，仪器结构不断改进，分析精度不断提高，应用功能不断扩大，越来越成为众多研究领域不可缺少的工具，目前已广泛应用于冶金矿产、生物医学、材料科学、物理和化学等领域。 SEM SEM SEM SEM SEM发展迅速，数量和普及程度超过TEM，其特点： 1、试样制备简单。只要将块状或粉末的、导电的或不导电的试样不加处理或稍加处理，就可直接放到SEM中进行观察。一般来说，比透射电子显微镜（TEM）的制样简单，且可使图像更近于试样的真实状态； 2、仪器分辨本领较高。二次电子像分辨本领可达1.0nm(场发射),3.0nm(钨灯丝)； 3、仪器放大倍数变化范围大（从几倍到几十万倍），且连续可调； 4、图像景深大，富有立体感。可直接观察起伏较大的粗糙表面（如金属和陶瓷的断口等）； 5、可做综合分析。SEM装上波长色散X射线谱仪（WDX）（简称波谱仪）或能量色散X射线谱仪（EDX）（简称能谱仪）后，在观察扫描形貌图像的同时，可对试样微区进行元素分析。 6、可以通过电子学方法有效控制和改善图像质量。 7、可进行动态实验。装上不同类型的试样台和检测器可以直接观察处于不同环境（加热、冷却、拉伸等）中的试样显微结构形态的动态变化过程（动态观察）。 缺点：分辨率稍低。SEM一般几个纳米，而TEM一般 零点几个纳米。 (1)电子枪 其作用是利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高能量的电子束。 扫描电子显微镜电子枪与透射电子显微镜的电子枪相似，只是加速电压比透射电子显微镜的低。 (2) 磁透镜 其作用是把电子枪的束斑逐渐聚焦缩小，使原来直径约50?m的束斑缩小成一个只有数nm的细小束斑。 扫描电子显微镜一般由三个聚光镜，前两个聚光镜是强透镜，用来缩小电子束光斑尺寸。 第三个聚光镜是弱透镜，具有较长的焦距，该透镜下方放置祥品。为避免磁场对二次电子轨迹的干扰，该透镜采用上下极靴不同且孔径不对称的特殊结构，这样可以大大减小下极靴的圆孔直径，从而减小了试样表面的磁场强度。 (3)样品室 扫描电子显微镜的样品室空间较大，一般可放置?20×10 mm的块状样品。 为适应断口实物等大零件的需要，近年来还开发了可放置尺寸在?125mm以上的大样品台。观察时，样品台可根据需要沿X、Y及Z三个方向平移，在水平面内旋转或沿水平轴倾斜。 新型扫描电子显微镜的样品室内还配有多种附件，可使样品在样品台上能进行加热、冷却、拉伸等试验，以便研究材料的动态组织及性能。 样品室  SEM的景深取决于分辨本领和电子束入射半角ac。由图可知，扫描电镜的景深F为 因为ac很小，所以上式可写作 4.3.5 SEM样品制备  SEM 固体材料样品制备方便，只要样品尺寸适合，就可以直接放到仪器中去观察。样品直径和厚度一般从几毫米至几厘米，视样品的性质和电镜的样品室空间而定。 对于块状导电材料，直接用导电胶粘结于样品座上；对于绝缘体或导电性差的材料来说，则需要预先在分析表面上蒸镀一层厚度约10～20 nm的导电层。否则，在电子束照射到该样品上时，会形成电子堆积，阻挡入射电子束进入和样品内电子射出样品表面。导电层一般是二次电子发射系数比较高的金、银、碳和铝等真空蒸镀层。 SEM样品制备大致步骤：1. 从大的样品上确定取样部位；2. 根据需要，确定采用切割还是自由断裂得到表界面；3. 清洗、干燥；4. 喷金、喷炭处理， * * 4.3 扫描电镜 SEM 4.3.1 SEM的特点 4.3.2 SEM的工作原理 扫描电镜的成像原理，和透射电镜大不相同，它不用什么透镜来进行放大成像，而是象闭路电视系统那样，逐点逐行扫描成像。 SEM的工作原理： 由电子枪发射出来的电子束经聚光镜（磁线圈）聚光后形成微细电子束，在扫描线圈的驱动下，电子束在样品表面按一定的时间、空间顺序做栅网式扫描。电子束与样品作用产生二次电子，二次电子随样品表面变化而变化，探测头接收二次电子信号，并将其转化为电信号，经视频放大后输入到显像管，形成反映试样表面形貌的二次电子像。 二次电子：入射电子与原子核