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- 2023-08-16 发布于四川
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本发明公开了一种适合氮化镓(GaN)紫外光催化辅助化学机械抛光液制备和抛光方法,该抛光液成分包括:混合磨料、氧化剂、表面活性剂、光催化剂、消泡剂、pH调节剂、悬浮剂、分散剂和去离子水。混合磨料为二氧化硅(SiO2)、氧化铈(CeO2)中的一种或两种;氧化剂为过氧化氢(H2O2);表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、异十三醇聚氧乙烯醚5的复配物;光催化剂为P25型纳米二氧化钛(TiO2);消泡剂为通用型有机硅T30C;pH调节剂为无机酸和无机碱的复配物;悬浮剂为水性高分子聚合物;分散剂为疏水改性磷酸
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116589927 A
(43)申请公布日 2023.08.15
(21)申请号 202310522862.X
(22)申请日 2023.05.10
(71)申请人 盐城工学院
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