- 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本申请公开了带偏压的管内壁磁控溅射镀膜设备及方法。本设备包括:真空电极,安装在待镀的样品管的一端,其电极与样品管内放置的靶材连接;陶瓷绝缘件,一端与样品管连接,另一端接真空过渡腔;真空过渡腔,向样品管通入或抽出工艺气体以维持辉光放电所需气压;电磁铁,在通电后在靶材表面形成磁场;溅射电源,与真空电极、真空过渡腔电连接;偏压电源,与样品管、真空过渡腔电连接,陶瓷件使得过渡腔与样品管之间电绝缘。在镀膜时,待镀样品管在适合的工艺气压和磁场下,靶材溅射出粒子在样品表面成膜同时可以对样品管施加独立控制的正偏
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116590678 A
(43)申请公布日 2023.08.15
(21)申请号 202310619161.8
(22)申请日 2023.05.25
(71)申请人 武汉大学
文档评论(0)