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- 2023-08-17 发布于四川
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提供了用于处理基板的工艺配件和处理腔室。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第二环部件具有的内厚度小于外厚度，并且所述第二环部件的上表面的至少一部分朝向所述第一环部件向内成角度。所述可调整调节环具有上表面，所述上表面与所述第二环部件的所述下表面接触。致动机构，所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接，且所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210120110 U
(45)授权公告日
2020.02.28
(21)申请号 20192
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