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- 2023-08-17 发布于四川
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本申请提供一种硅基光耦合结构、硅基单片集成光器件。该硅基光耦合结构包括:形成于绝缘体上的硅(SOI)衬底的顶层硅中的第一光栅结构和第一光波导结构,所述第一光栅结构的条形刻痕分布于横向上,并且,所述第一光栅结构和所述第一光波导结构在横向上连接;位于所述第一光栅结构的上方的第二光栅结构,所述第二光栅结构的条形刻痕分布于横向上,并且,所述第二光栅结构与所述第一光栅结构在纵向上对置;与所述第二光栅结构在横向上连接的第二光波导结构;以及覆盖所述第一光栅结构、所述第一光波导结构、所述第二光栅结构以及所述第二
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210123485 U
(45)授权公告日
2020.03.03
(21)申请号 20192
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