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- 2023-08-17 发布于四川
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本公开内容总的来说涉及用于基板处理腔室中的气体分配的装置。所述气体分配装置包括第一区隔板、第二区隔板和面板。所述面板可移动地放置在部分地限定处理容积的腔室衬垫上。灯组件设置在所述气体分配组件上方并且可调整地加热所述面板。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210123719 U
(45)授权公告日
2020.03.03
(21)申请号 20192
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