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本发明提供一种表面波等离子体装置,包括谐振板,在谐振板的远离反应腔室的一个表面上形成有凹槽,该凹槽中可分离的填充有介质结构,用于调节反应腔室中的等离子体分布均匀性。本发明提供的表面波等离子体装置,其不仅可以提高调节等离子体分布均匀性的便捷性、灵活性,而且还可以避免腔室颗粒增加、谐振板下表面不平整的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 110769585 A
(43)申请公布日
2020.02.07
(21)申请号 20181
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