一种真空浇注系统.pdfVIP

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  • 2023-08-20 发布于四川
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本实用新型公开了一种真空浇注系统,包括搅拌罐,所述搅拌罐顶部的一侧开设有投料口,所述搅拌罐一侧的底部连通有真空管,并且真空管远离搅拌罐的一端设置有抽真空及泄压组件,所述搅拌罐的底部连通有出料管,并且出料管的底端转动连接有下料管,本实用新型涉及浇注成型技术领域。该真空浇注系统,通过搅拌罐一侧的底部连通有真空管,并且真空管远离搅拌罐的一端设置有抽真空及泄压组件,从搅拌物料,加热到浇注,整个工艺过程都处于真空环境,确保高分子碳化硅复合陶瓷材料搅拌均匀,颗粒分布致密,内部组织不会产生气孔和疏松等组织缺陷

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210148389 U (45)授权公告日 2020.03.17 (21)申请号 20192

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