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ABSTRACT
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H-UiO-66优化合成及其正异构烷烃吸附分离性能研究
摘 要
高纯度正庚烷(≥99%)黏度低,芳烃含量及硫、氮含量低,附加值高,在化工、医药、电子等相关行业需求量较大。我国还没有掌握完全的该技术,因此制备高纯度正庚烷的工艺尤为必要
本文采用模板法,考察不同温度不同时间对合成多级孔H-UiO-66的影响,采用XRD和N2吸附/脱附等温线对其进行表征并考察其动态吸附性能。主要研究内容和结论如下:
应温度为120℃,合成时间6h。
正庚烷/甲基环己烷双组份吸附穿透曲线可知,所有实验条件中,正庚烷都比甲基环己烷优先穿透。
正庚烷/甲基环己烷双
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