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本发明提出的基板清洗设备及其翻转装置中，基板翻转装置包括槽、提升机构和翻转机构，提升机构设置在槽一侧，配置为接收基板并带动基板升降；翻转机构设置在槽上，用于翻转基板，配置为相对提升机构在接片位置和取片位置之间移动，接片位置为翻转机构从提升机构中接收基板的位置，取片位置为从翻转机构取出基板的位置。在本发明中，完成槽式清洗的多片基板能够一次性转移到提升机构中，并由翻转机构分多次快速转移到工艺机械手，这不仅使得完成槽式清洗的基板在基板清洗槽内的停留时间减少，提高基板清洗设备的效能，还有利于提高基板翻转
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116646273 A
(43)申请公布日 2023.08.25
(21)申请号 202210138646.0
(22)申请日 2022.02.15
(71)申请人 盛美半导体设备(上海)股份有限公
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