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本发明公开了一种晶圆化镀设备快排清洗槽装置,涉及晶圆生产技术领域,包括基座,所述基座的顶部外壁一侧固定安装有清洗箱,且清洗箱内设置有多个清洗池,所述基座表面靠近清洗箱的一侧固定安装有回形轨槽,还包括悬挑架和装料组件;本发明当活动卡块能够以震动弹簧为基础在限位滑槽中进行小幅度震动时,延伸柱连同端块能够在惯性作用下,与清洗网箱产生相对位移,此时,设置的带轮杆能够与侧端杆上的弧面凸块相抵触,并在支撑弹簧作用下,使得清洗网箱在横向以及纵向方向上均能够产生一定幅度的震动,从而有利于晶圆与水液的充分接触,进
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116646280 A
(43)申请公布日 2023.08.25
(21)申请号 202310625030.0
(22)申请日 2023.05.30
(71)申请人 苏州尊恒半导体科
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