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本发明公开了铌酸锂晶体多角度抛光处理装置，包括机座，在机座上固定设置有支撑机体且位于支撑机体的一侧转动设置支撑座，并在支撑座的侧面呈环形阵列设置若干外固定块用于夹持铌酸锂晶体，另外，在机座上位于支撑座的一侧对称滑动设置立架，并在两个立架之间转动设置悬架，再在悬架上滑动设置抛光组件，用来对铌酸锂晶体进行抛光处理，抛光组件滑动设置在悬架上且悬架呈半圆形，同时悬架为转动设置，所以抛光组件所能抛光的面呈一个球形，有效地满足了铌酸锂晶体多角度抛光的要求。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116638394 A
(43)申请公布日 2023.08.25
(21)申请号 202310758975.X B24B 47/12 (2006.01)
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