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本实用新型提出了一种用于制备纳米材料的气相反应炉,包括:炉体,炉体安装在炉体支架上,其特征在于:还包括供气系统、升降系统,供气系统设置在炉体的外侧并通过气管与炉体连通,炉体内设有上部导热板、导流均热板、炉腔、两个混气腔,炉体下部设有开口,上部导热板和两个导流均热板包裹在炉腔外部,混气腔位于导流均热板的外侧;在炉体下方还设有升降系统,升降系统上部设有升降台、炉门、下部导热板,炉门与炉体下部开口采用气密性结构密封。其有益效果是:本实用新型解决了小型CVD真空管式炉制备纳米材料面积小,生长不均匀的问题
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210237770 U
(45)授权公告日
2020.04.03
(21)申请号 20192
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