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金属酞菁分子在金属表面自组装及Kondo效应的STM研究的中期报告
本研究旨在探究金属表面上金属酞菁分子的自组装性质及其与Kondo效应之间的相互作用。本研究采用扫描隧道显微镜(STM)技术对金属表面上金属酞菁分子的自组装形貌进行观察和分析,并通过对电流-电压(I-V)曲线的测量以及对温度依赖性的研究来探究其与Kondo效应的关系。
在实验中,我们选择铜(Cu)和银(Ag)表面作为底板,并通过蒸镀法在其表面上制备金属酞菁分子。通过STM观察,我们发现在两种金属表面上,金属酞菁分子呈现出不同的自组装形貌。在Cu表面上,金属酞菁分子呈现为有序的单分子链状结构,并且链状结构之间存在着明显的交错现象。而在Ag表面上,金属酞菁分子则呈现为无序的自组装结构。
此外,我们还通过对I-V曲线的测量,发现在Cu表面上的金属酞菁分子中存在着明显的Kondo效应。随着温度的降低,Kondo温度也呈现出明显的下降趋势,并且在低温下出现了低阶项。在Ag表面上,由于金属酞菁分子的自组装结构的无序性,Kondo效应的存在并不明显。
综上所述,本研究通过对金属酞菁分子在金属表面的自组装形貌和Kondo效应的研究,深入探究了金属表面上分子自组装与Kondo效应的相互作用机制,为相关领域的研究提供了新的思路和方法。
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