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本申请涉及一种绝缘栅双极型晶体管及制作方法、电子设备及存储介质,方法包括:提供一衬底,在衬底上依次设置氧化层和外延层;在外延层远离氧化层一侧设置一沟槽,并在沟槽内设置多晶硅栅;通过在外延层远离氧化层一侧注入第一电荷类型的掺杂物,形成体区,体区设置在多晶硅栅两侧;通过在体区远离外延层一侧注入第二电荷类型的掺杂物,形成发射区,发射区设置在多晶硅栅两侧;设置覆盖多晶硅栅、发射区以及体区的第一金属层;去除衬底,在氧化层远离外延层一侧设置第二金属层,第二金属层通过氧化层上的通孔与外延层接触,将缘栅双极型晶
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116666211 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202210157368.3
(22)申请日 2022.02.21
(71)申请人 珠海零边界集成电路有限公司
地址
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