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本实用新型公开了一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置,包括:真空箱体和位于所述真空箱体内的被镀件固定架、被镀件移动机构、溅射阴极、阴极运动机构;本实用新型相比于传统的平面镀膜装置,是两个零件两个表面同时进行磁控溅射镀膜,根据溅射基板的尺寸,可以增加环路磁铁数量,即增加电离子环状封闭跑道数,进而扩大溅射面积,提高生产效率。而且与传统平面溅射阴极相比,同等情况下阴极结构的体积缩小了。磁铁座上下面布置磁铁是为了形成环状封闭跑道,因此主要是在正反面上进行溅射工作。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210287144 U
(45)授权公告日
2020.04.10
(21)申请号 20192
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