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本实用新型揭示了一种晶圆化镀设备快排清洗槽装置，包括槽体和设置在槽体底部的溢流机构，溢流机构包括竖直设置的进水管和水平设置在进水管顶端的分布头，进水管的底端内壁上凸起设有台面，分布头包括圆弧板、连接座、导流板、分流柱、侧挡板，圆弧板上沿周向间隔均匀设有多排溢流孔，多排溢流孔孔径由圆弧板顶部向两侧底部逐渐加大，分流柱与连接座固定连接且贯穿分布空间设置，分流柱底面为圆弧面，圆弧面轴线垂直于圆弧板和进水管的轴线。本实用新型进水管从分布头中部进水，进水管底端管径小于顶端管径，分布空间中间大两头小的空间构
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210325718 U
(45)授权公告日
2020.04.14
(21)申请号 20192
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