- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
;;光刻机的发展;五 代 光 刻 机;因为接触容易污染
,每5到25次需要更换掩模版。;光刻机的发展;光刻机的发展所伴随的参数变化;影响光刻机的一些因素;Resolution limit AND DOF;Resolution;代价;Wavelength of Lithography System;我们目前所用光刻机的曝光
波长是390-450纳米;FOCUS AND DOF;FOCUS AND DOF;RETMAN PROGRAM;添加主要参数;Main
functions;RETMAN PROGRAM;MIN.STREET WIDTH STREET OUTSIDE FIELD ARRAY OFFSET X—KEY TO REFERENCE Y--OFFET;RETMAN PROGRAM;MODIFY RETICLE KEY DEFINITIONS
C- CHANGE SINGLE CHIP
A- CHANGE ALL CHIP
K- ADD KEYS,LEFT ,RIGHT,BOTH,NONE
O- ENTER A CHIP OFFSET
D- DELETE CHIP
E- ENLARGE VIEW
R- ROTATE CHIP 90 DEGREE;KEY;光刻工艺控制;光刻工艺控制;光刻工艺控制;光刻工艺控制;光刻工艺控制;· D. Print Bias: (What you see isn’t always what you get!);;内容总结
您可能关注的文档
最近下载
- 2025年警务辅助人员招聘考试《行政职业能力测验+公安基础知识》题库.docx VIP
- 国家建筑标准设计图集20S515 钢筋混凝土及砖砌排水检查井.pdf VIP
- 学堂在线 医学英语词汇进阶 期末考试答案.docx VIP
- 基于STM32的智能鱼缸控制系统设计与实现.docx VIP
- TS-TLSZ-岛津GC-MSQP2010plus操作指导书.doc VIP
- 中考英语阅读理解专项练习.pdf VIP
- 清华大学线性代数考试真题1.pdf VIP
- 【信息披露2】民生六福盈门两全保险产品说明书.pdf
- 清华大学《线性代数》历年期末考试试卷(含答案).pdf VIP
- 精品解析:四川省成都市七中育才学校2024-2025学年七年级上学期11月期中考试数学试题(原卷版).docx VIP
原创力文档


文档评论(0)