原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本申请提供一种微孔镀膜装置及镀膜方法，涉及镀膜领域，该微孔镀膜装置通过高功率脉冲磁控技术产生超高密度等离子体离化金属靶材，获得高离化率的等离子体，通过在工件前端放置金属栅网用以产生等离子体鞘层吸引金属离子轰击工件。金属靶材溅射气压在0.1Pa以下，以减少金属离子运动过程和气体分子的碰撞而损失能量。产生的高能金属离子先沉积在工件侧壁及孔内壁靠近孔口处，随着高能金属离子持续的轰击，把孔口及内壁处的首次沉积的粒子轰击形成二次溅射粒子，二次溅射粒子向孔内壁延伸，并最终沉积在孔内壁。同时高能金属离子在碰撞
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115044879 A
(43)申请公布日 2022.09.13
(21)申请号 202210890285.5
(22)申请日 2022.07.27
(71)申请人 松山湖材料实验室
地址 52380
文档评论（0）