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本发明公开了一种超薄钯/镁基薄膜透射电镜样品及其制备方法，所述方法为先在超薄钯/镁基薄膜表面沉积一个碳氟高分子保护膜层，随后对于复合膜层利用聚焦离子束(FIB)完成透射电镜试样的加工过程。本方法利用氟碳高分子保护膜层对于金属膜层之间扩散的抑制作用，可减小聚焦离子束加工过程所需的Pt膜向待加工钯/镁基薄膜试样中的扩散，避免试样结构遭到破坏。该方法操作简便，且能显著消除Pt层对于待加工样品结构分析的干扰，在薄膜的透射显微分析领域具有重要的应用前景。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116718620 A
(43)申请公布日 2023.09.08
(21)申请号 202310780012.X
(22)申请日 2023.06.29
(71)申请人 上海交通大学
地址 200240
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