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- 2023-09-09 发布于四川
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本发明公开了一种辐射敏感标志及其制备方法，属于高分子辐射化学和核技术的应用领域。原料组成如下：树脂基材5‑30份、显色剂0.5‑1.5份、四氢呋喃70‑100份、增塑剂0.5‑2.5份（以重量份计）。通过溶解、流延成膜、制片和粘贴等步骤制得。在60Coγ射线辐照下，该标志由浅黄色变红色，颜色发生变化。使用方便、灵敏度高、性能稳定且价格低廉。可作为一种辐射与否标志，在材料改性、消毒灭菌、生物变异和食品贮藏保鲜等辐射加工领域应用，具有广阔的市场前景。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116719075 A
(43)申请公布日 2023.09.08
(21)申请号 202310664137.6 (51)Int.Cl .
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