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- 2023-09-11 发布于四川
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本实用新型适用于光学和电子技术领域,提供了一种光源结构,其用于发出不规则分布的光斑图案。所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的一百个不规则分布的发光单元。所述半导体基底的发光表面上定义出一图案光发光区域。所述图案光发光区域为矩形。以所述图案光发光区域左下角顶点为原点,相交于左下角的两条直角边延展方向分别为横坐标轴和纵坐标轴,坐标单位为微米,所述一百个发光单元分布在该图案光发光区域内。本实用新型还提供一种包括该光源结构的光学投影模组、感测装置及设备。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210401989 U
(45)授权公告日
2020.04.24
(21)申请号 20189
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