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- 2023-09-11 发布于四川
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一种解胶系统，用于去除物料表面的胶层，包括：一光源模块，其中，所述光源模块包括一光源单元，用于被导通之后产生一光照区域；一置料模块，其中，所述置料模块位于所述光源单元的所述光照区域内，以用于支持具有该胶层的该物料于所述光照区域内，从而借由所述光源单元对该物料的胶层进行曝光；一控制模块，用于控制所述光源单元的光照时间；以及，一动力模块，所述动力模块与所述控制模块可通信连接，用于，基于所述光照时间，作动所述置料模块进入和离开所述光照区域。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210386456 U
(45)授权公告日
2020.04.24
(21)申请号 20182
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