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- 2023-09-11 发布于四川
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本实用新型公开一种DRAM存储芯片三维集成封装结构,属于集成电路封装领域。所述DRAM存储芯片三维集成封装结构包括依次键合的顶层、若干个中间层和底层;其中,底层包括塑封的TSV转接芯片和存储芯片,底层正面形成有n层重布线和凸点,背面制作有粘结层;中间层包括塑封的TSV转接芯片和存储芯片,中间层正面形成有n层重布线和凸点,与底层背面键合;顶层包括塑封的存储芯片,顶层正面形成有n层重布线和凸点,与中间层背面键合。本实用新型通过TSV转接芯片完成每层间的垂直互连,用底填料填充凸点缝隙,增强封装结构强度
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210379016 U
(45)授权公告日
2020.04.21
(21)申请号 20192
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