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- 2023-09-13 发布于四川
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本实用新型公开一种制备二维晶体材料的化学气相沉积设备包括:包括:真空室;所述真空室内设置有样品台和气体分配器;第一控温室,用于放置第一原材料,并用于将所述第一原材料加热以产生第一原材料的蒸气;第一进气管,连通所述第一控温室和所述气体分配器;第二控温室,用于放置固态或液态第二原材料,并用于所述第二原材料加热以产生第二原材料的蒸气;第二进气管,连通所述第二控温室和所述气体分配器;第三进气管,一端用于连通所述第二原材料的气体源,另一端连通所述气体分配器。本实用新型技术方案具有二维晶体材料制备精度高,产
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210394591 U
(45)授权公告日
2020.04.24
(21)申请号 20192
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