Ba(Fe12Nb12)O3基薄膜的PLD生长、结构与性能的中期报告.docxVIP

Ba(Fe12Nb12)O3基薄膜的PLD生长、结构与性能的中期报告 该中期报告旨在介绍Ba(Fe12Nb12)O3基薄膜的PLD生长、结构与性能研究的进展。Ba(Fe12Nb12)O3具有较高的压电常数和较低的损耗角正切，因此被广泛应用于微波电子学领域。 在生长方面，采用激光溅射沉积(PLD)技术在氧气氛围下进行。通过调节氧气气压、基底温度和沉积时间等参数，得到了厚度约为400nm的Ba(Fe12Nb12)O3薄膜。同时，采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的晶体结构和表面形貌进行了表征。XRD结果表明，薄膜为单相结构，并且晶体结构与Ba(Fe12O19)非常相似；SEM观察到薄膜表面较为光滑，但也存在一些微观裂纹。 在性能方面，采用Lakes HTR-3热膨胀仪测试了薄膜的压电性能。热膨胀实验表明，Ba(Fe12Nb12)O3薄膜具有较高的压电畸变和柔性，可用于微波电子学中的应力传感器和振荡器等器件中。 总体来说，该研究第一次成功地利用PLD技术生长出了Ba(Fe12Nb12)O3薄膜，并对其结构和性能进行了初步表征。未来将通过进一步优化生长参数，改善薄膜的表面光滑度和晶体结构完整性，并进一步研究其在微波电子学中的应用。