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- 2023-09-13 发布于四川
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本实用新型公开了一种硅片清洗药剂槽，该硅片清洗药剂槽包括溢流储液槽、清洗槽、出液管、液体泵、加热装置和振动装置，所述溢流储液槽具有液体出口和液体回流口，所述清洗槽具有溢流口，所述溢流口位于所述清洗槽的底壁上方，所述溢流口与所述液体回流口相连通，所述出液管的周面上设有多个出液孔，所述出液管设在所述清洗槽的底壁上，所述出液管与所述液体出口相连；液体泵，所述液体泵连接在所述出液管与所述液体出口之间以将所述溢流储液槽内的清洗药剂输送至所述清洗槽内，所述加热装置设在所述清洗槽内，所述振动装置设在所述清洗槽
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210386771 U
(45)授权公告日
2020.04.24
(21)申请号 20192
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